本文介绍目标分析过程。示例为假设场景,不表示已确认的设备归因、参数处方或已完成接口集成。

图像和工程条件,是两类输入

晶圆图像记录观察到的现象;Recipe、设备履历和工步信息提供形成现象的工程背景。两类材料要通过明确标识连接,才能围绕同一个对象展开调查。

输入连接调查所需的信息
图像与缺陷记录Wafer / Die / 区域标识、坐标、扫描时间与条件
Recipe 与配置实际采用的版本、单位、适用工步与执行记录
设备与工步履历Tool / Chamber、加工顺序、批次与时间
相关结果问题需要的量测、验证或测试结果及其来源

这里列出的是数据需求框架。实际可用格式、导出方式和接口范围,需要按客户的数据条件与产品版本确认。

先对齐对象,再讨论关联

图像观察区域 / 形貌工程条件Recipe / 履历对齐可比条件分组 · 计算 · 复核候选关联与限制PE / PIE下一轮验证验证结果,回到调查上下文
两类输入经对齐后进入可比分析,再交给 PE/PIE 安排工程验证。

当前 Recipe 文件不一定等于被分析晶圆当时采用的版本。设备日志的时间窗口也要与实际加工事件对应。关联前应核查对象、版本、时间和单位;缺少的连接关系应明确记录。

一个光刻调查的假设场景

假设某组晶圆出现值得核查的空间差异。Agent 可以先确认扫描条件和参考对象,然后核查同产品、同层别的记录:是否涉及不同曝光机、涂胶显影 Track 模块、Recipe 版本或维护时间窗口?设备名称与模块标识需对应实际工步。

如果数据中同时存在多个变化,分析需要保留这些条件。按可比组进行空间比较、检查相关量测,再观察候选关系是否在其他样本中出现,可以帮助缩小下一轮验证范围。

这条调查路径的交付可能是:“优先核查某组设备与 Recipe 条件,并补充对应参考片。”是否能进一步提出具体参数调整,要由相应证据和工程验证决定。

方法由当前问题和数据决定

分布比较、分组统计、关联分析和回归,各自回答不同的问题。需要训练图像模型时,还要说明样本与标注来源、训练和评估范围、误差表现,以及模型适用的对象。

每次方法选择都应关联专业规范、输入版本、参数和运行记录。结果返回后,再回到图像与工程背景复核,决定继续建模、补充材料或安排验证。

让相关性成为可验证的假设

检查应能区分候选解释:例如检测条件变化、图像对齐偏差和真实缺陷新增。若现有材料无法区分,应保留并存解释与明确缺口,再安排合适的对照或 DOE;相关性不能自动成为唯一根因。

统计关联为调查提供线索,因果判断还需要科学与工程依据。NIST 的散点图指南明确区分关联与因果;实验设计指南则从目标、变量与设计选择展开验证方法。

建议交付应包含候选工步或参数、支持依据、尚未排除的解释、需要补充的数据,以及 PE/PIE 可以安排的验证。验证结果继续回到同一调查上下文。

工程建议说明为什么查这里,以及怎样验证这个判断。
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